A Correlação das Propriedades Ópticas dos Filmes Finos ZnO - Benramache, Said;Lakel, Said;Chabane, Foued
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No presente trabalho, utilizámos as propriedades ópticas das películas finas de óxido de zinco puro e dopado como o semicondutor do tipo "n". As películas finas foram depositadas em diferentes molaridades precursoras por spray ultra-sónico e técnicas de pirólise de spray também a diferentes temperaturas do substrato, o ZnO dopado com vários dopantes tais como Al, In, Co, Ni, Sn, V, Fe, F, Sn dopado de películas finas de ZnO. Neste trabalho, a atenção centrou-se na nova abordagem actual para calcular a energia do fosso óptico e as energias Urbach. Foi estudado o modelo proposto para calcular o…mehr

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Produktbeschreibung
No presente trabalho, utilizámos as propriedades ópticas das películas finas de óxido de zinco puro e dopado como o semicondutor do tipo "n". As películas finas foram depositadas em diferentes molaridades precursoras por spray ultra-sónico e técnicas de pirólise de spray também a diferentes temperaturas do substrato, o ZnO dopado com vários dopantes tais como Al, In, Co, Ni, Sn, V, Fe, F, Sn dopado de películas finas de ZnO. Neste trabalho, a atenção centrou-se na nova abordagem actual para calcular a energia do fosso óptico e as energias Urbach. Foi estudado o modelo proposto para calcular o intervalo de banda ou as energias Urbach de filmes finos de ZnO não dopados e dopados. A relação entre os dados experimentais e o cálculo teórico com as molaridades precursoras sugere que o intervalo de banda ou as energias Urbach são predominantemente estimadas pelo intervalo de banda ou pelas energias Urbach e a concentração da solução ZnO.
Autorenporträt
O Dr. Said Benramache nasceu na Argélia em 1981, recebeu o seu grau de D.Sc. em física da universidade de Mohamed Khider Biskra (Argélia), e o grau HDR em educação física. Tem mais de 100 trabalhos de investigação em revistas de renome internacional. É também editor associado de duas revistas internacionais.