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Immer mehr Menschen unterziehen sich einer kieferorthopädischen Behandlung, weil sie sich ein ästhetisch ansprechendes Lächeln bewahren wollen. Infolgedessen sind zahlreiche Probleme entstanden, die durch das Anhaften der Brackets am Zahnschmelz verursacht werden. Ein häufig auftretendes Problem ist die Bildung von White-Spot-Läsionen, die sowohl das Aussehen als auch die Funktionalität eines Zahns beeinträchtigen können, da sie seine Anfälligkeit für Karies erhöhen. Die Plaque-Ansammlung auf der Oberfläche des Brackets kann chemisch, mechanisch oder durch Veränderung von Geräteteilen wie…mehr

Produktbeschreibung
Immer mehr Menschen unterziehen sich einer kieferorthopädischen Behandlung, weil sie sich ein ästhetisch ansprechendes Lächeln bewahren wollen. Infolgedessen sind zahlreiche Probleme entstanden, die durch das Anhaften der Brackets am Zahnschmelz verursacht werden. Ein häufig auftretendes Problem ist die Bildung von White-Spot-Läsionen, die sowohl das Aussehen als auch die Funktionalität eines Zahns beeinträchtigen können, da sie seine Anfälligkeit für Karies erhöhen. Die Plaque-Ansammlung auf der Oberfläche des Brackets kann chemisch, mechanisch oder durch Veränderung von Geräteteilen wie Brackets und Drähten behandelt werden. Mundspülungen und andere chemische Methoden verändern die mechanischen Eigenschaften von kieferorthopädischen Geräteteilen. Umgekehrt ist die Compliance des Patienten bei mechanischen Techniken wie dem Zähneputzen erforderlich. Daher wurden fortschrittlichere Techniken zur Verringerung der Plaqueablagerung erforscht, wie z. B. die Beschichtung der Drähte, Brackets oder anderer Komponenten mit Nanopartikeln. In diesem Buch wird daher die neueste Methode zur Veränderung oder Beschichtung von Zahnspangen mit Nanopartikeln erörtert, um dieses Problem zu lösen.
Autorenporträt
Dr. Simarpreet Bhamra- PostgraduierterDr. Arun S. Urala- ProfessorDr. Ramya Jathanna- LeserAbteilung für Kieferorthopädie und dentofaziale Orthopädie, Manipal College of Dental Sciences, Manipal, Manipal Academy of Higher Education.