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Cet ouvrage examine et étudie les caractéristiques des structures de silicium nanoporeux fabriquées par gravure anodique de tranches de silicium. Le silicium poreux présente de nouvelles propriétés matérielles qui diffèrent de celles du silicium massif. Ces nouvelles propriétés sont intéressantes et applicables dans divers domaines tels que l'optique, l'optoélectronique, la technologie des capteurs et la biomédecine. La compréhension de la dynamique et des mécanismes impliqués dans le processus de gravure, tels que les relations de cause à effet, les propriétés internes des plaquettes et les conditions anodiques externes du processus de gravure, est donc essentielle pour aider les technologues à fabriquer les structures poreuses souhaitées à des fins diverses. Diverses tranches de silicium de propriétés différentes sont gravées dans un environnement contrôlé avec des conditions externes variables telles que la densité de courant, les solutions d'électrolyte, les tensioactifs de surface et le temps de gravure. Les relations et dépendances telles que l'épaisseur de la couche poreuse gravée, le taux de gravure et le taux de dégradation des structures et de la morphologie de la surface sur les conditions anodiques externes sont établies.