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Filmes altamente condutores e transparentes têm muitas aplicações importantes, tais como eletrodos transparentes para dispositivos optoeletrônicos e espelhos de calor transparentes para utilização de energia solar. Embora os filmes finos de óxido de índio e estanho (ITO) sejam geralmente utilizados para aplicações práticas, o ITO é um material relativamente caro porque o índio não é abundante. Recentemente, as películas finas de ZnO de Al-doped atraíram o interesse como material de revestimento transparente e condutor, porque o baixo custo deste material torna-o atractivo para aplicações em…mehr

Produktbeschreibung
Filmes altamente condutores e transparentes têm muitas aplicações importantes, tais como eletrodos transparentes para dispositivos optoeletrônicos e espelhos de calor transparentes para utilização de energia solar. Embora os filmes finos de óxido de índio e estanho (ITO) sejam geralmente utilizados para aplicações práticas, o ITO é um material relativamente caro porque o índio não é abundante. Recentemente, as películas finas de ZnO de Al-doped atraíram o interesse como material de revestimento transparente e condutor, porque o baixo custo deste material torna-o atractivo para aplicações em larga escala. Neste livro, serão discutidas as condições otimizadas de deposição para a preparação das películas finas de Al-doped ZnO pelo método de pulverização de magnetron DC reativo. As propriedades estruturais, morfológicas de superfície, elétricas e ópticas dos filmes finos de Al-doped ZnO foram relatadas sistematicamente.
Autorenporträt
Dr. B. Rajesh Kumar, Profesor Asistente, Departamento de Física, GITAM (Deemed to be University), Visakhapatnam, A.P, India Dr. B. Hymavathi, Profesor Asistente, Departamento de Física, ANITS, Visakhapatnam, A.P, India Prof. T. Subba Rao, Facultad UGC-BSR, Departamento de Física, Universidad Sri Krishnadevaraya, Anantapur, A.P, India