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O BiFeO3 é um dos materiais multiferróicos mais promissores, uma vez que pode exibir tanto ferroelectricidade como antiferromagnetismo à temperatura ambiente. Para além disso, sabe-se que o BFO tem um "band-gap" óptico na gama de 2,5 - 3,2 eV. Isto torna-o um material importante para futuras aplicações em dispositivos optoelectrónicos. Nesta abordagem, filmes finos de BFO puro e dopado com Ni foram depositados com sucesso em substrato FTO usando o sistema de pirólise por pulverização. As propriedades estruturais, morfológicas e ópticas das películas foram bem discutidas. A estrutura das…mehr

Produktbeschreibung
O BiFeO3 é um dos materiais multiferróicos mais promissores, uma vez que pode exibir tanto ferroelectricidade como antiferromagnetismo à temperatura ambiente. Para além disso, sabe-se que o BFO tem um "band-gap" óptico na gama de 2,5 - 3,2 eV. Isto torna-o um material importante para futuras aplicações em dispositivos optoelectrónicos. Nesta abordagem, filmes finos de BFO puro e dopado com Ni foram depositados com sucesso em substrato FTO usando o sistema de pirólise por pulverização. As propriedades estruturais, morfológicas e ópticas das películas foram bem discutidas. A estrutura das películas foi confirmada com o padrão XRD e observou-se que ambas as amostras são de natureza policristalina e os picos de difracção observados estão indexados à estrutura romboédrica com grupo espacial R3c. A dopagem com Ni foi considerada desejável porque reduz o intervalo de banda óptica e, portanto, pode ser usada com muito sucesso para muitas aplicações optoelectrónicas e magneto-ópticas.
Autorenporträt
Dr. P. M. Razad received his PhD degree in Physics from Bharathiar University with the support of UGC-DAE CSR, Indore. He has published Nine research papers in international journals of reputed. He has joined as assistant professor in Sriramakrishna College of Arts and Science in 2018. Ms R. Dhivya has co authored this book.