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El material de nanoestructura de SiO2 se sintetizó por el método Sol-Gel. Las películas delgadas se prepararon mediante una técnica de recubrimiento por inmersión. Se ha estudiado el efecto de la densificación láser en las muestras. La estructura esférica de nanocristales de las películas delgadas de sílice se densificó con éxito mediante láser de diodo (410 nm). Las imágenes FESEM mostraron que la forma de la nano sílice es esférica y el tamaño de las partículas está en el rango nano (¿ 100 nm).
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