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L'électrodéposition des films minces d'alliage cobalt-cuivre en milieu sulfate sur un substrat en FTO en vue d'applications dans la technologie de l'enregistrement magnétique à haute densité a été investie. L'objectif de cette étude est d'apporter des renseignements sur les mécanismes régissant la codéposition des métaux Co et Cu et de l'alliage Co-Cu, en particulier l'étude des premiers stades de nucléation-croissance par l'utilisation de modèle mathématique de Scharifker-Hills. L'étude électrochimique a permis de montrer que la codéposition du Co et du Cu est normale. Également, la réaction…mehr

Produktbeschreibung
L'électrodéposition des films minces d'alliage cobalt-cuivre en milieu sulfate sur un substrat en FTO en vue d'applications dans la technologie de l'enregistrement magnétique à haute densité a été investie. L'objectif de cette étude est d'apporter des renseignements sur les mécanismes régissant la codéposition des métaux Co et Cu et de l'alliage Co-Cu, en particulier l'étude des premiers stades de nucléation-croissance par l'utilisation de modèle mathématique de Scharifker-Hills. L'étude électrochimique a permis de montrer que la codéposition du Co et du Cu est normale. Également, la réaction de réduction du Co est accompagnée par la réaction concurrente de dégagement d'hydrogène (HER) et elle est fortement influencée par le potentiel appliqué. L'étude des premiers instants de déposition montre que la nucléation suit parfaitement un model de nucléation instantanée. L'étude par DRX montre que les dépôts sont constitués des grains de Co de structures cfc-hcp mélangées dépendent des régimes surpotentiels appliqués. Les mesures magnétiques ont révélé l'existence seulement de phases ferromagnétiques qui sont directement liée à la taille et la structure de particules magnétique (Co).
Autorenporträt
Docteur Mentar Loubna est Maître de conférence classe A. Enseignante chercheur à l'Institut d'Optique et Mécanique de Précision (IOMP) de l'Université Ferhat Abbas-Sétif 1 (Algérie). Son domaine de recherche est l'électrodéposition des nanostructures pour différentes applications technologiques.