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I film sottili svolgono un ruolo importante nello sviluppo e nello studio di materiali con proprietà nuove e uniche. I film sottili sono molto utili nel mondo moderno per il loro vantaggio di modificare le proprietà della superficie di un materiale sfuso in base alle nostre esigenze. I film sottili possono essere depositati su materiali sfusi mediante due tipi di processi: la deposizione fisica da vapore e la deposizione chimica da vapore. L'obiettivo principale del presente lavoro è sintetizzare un rivestimento a base di nitruro di tantalio su substrati di vetro, silicio, ottone e acciaio dolce utilizzando il processo di sputtering magnetronico a radiofrequenza. Abbiamo studiato l'effetto del tempo di deposizione e della variazione della portata di azoto sulle proprietà strutturali e tribologiche del rivestimento a base di nitruro di tantalio. Il tempo di deposizione del rivestimento è stato variato da 20 a 80 minuti. La portata di azoto è stata variata da 5 a 30 sccm. Per determinare la struttura e la topografia superficiale del rivestimento sono stati utilizzati il diffrattometro a raggi X (XRD) e la microscopia a forza atomica (AFM). Per determinare le proprietà tribologiche del rivestimento è stato utilizzato il tribometro a disco.