Una sola muestra de dos capas que consistía en una monocapa de Ni y una monocapa de Ti con la capa de Ni como capa base se depositó en un sustrato de silicio. Durante la deposición, el sustrato fue girado a una velocidad predefinida. A continuación, las capas depositadas se recocinaron a temperaturas de 300 ¿ C, 400 ¿ C, 500 ¿ C y 600 ¿ C, durante un período de 1 hora en un horno de vacío, a fin de lograr la cristalinidad de las capas depositadas y formar una sola capa cristalina, y también con el fin de lograr la homogeneidad química. La tesis trata del proceso de fabricación de las aleaciones con memoria de forma de película delgada de NiTi y la caracterización de su morfología, así como de las propiedades mecánicas de las películas delgadas como la dureza, la reducción del módulo elástico y por lo tanto el módulo elástico, la tasa de desgaste y por lo tanto la resistencia al desgaste, la relación de recuperación de profundidad y por lo tanto las propiedades superelásticas. Las películas se fabricaron en una máquina de pulverización de magnetrones DC/RF sobre un sustrato de Si limpiado a fondo, mantenido a una temperatura de 300 ¿ C, a partir de dos materiales objetivo de Ni y Ti de 75 mm de pureza al 99,99% en una atmósfera inerte compuesta de Argón de 99,99% de pureza. Durante la deposición, el sustrato se giró a una velocidad predefinida.
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