Fabrico de silício nanoporoso
Awad Mogoda
Broschiertes Buch

Fabrico de silício nanoporoso

Gravura de silício catalisada por prata em HF/HNO3

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As características da camada porosa de Si formada pelo condicionamento químico de p-Si com prata em solução aquosa de HF/HNO3 são influenciadas pela concentração de iões de Ag no banho de revestimento, pelas concentrações do condicionador (HF) e do agente oxidante (HNO3) e pelo tempo de condicionamento do substrato de Si. Os resultados do SEM confirmaram que a deposição de iões de prata a partir de uma solução de AgNO3 a 1,0 × 10-3 M em p-Si antes do ataque químico em HF/HNO3 resultou numa PSL uniforme, em comparação com as outras concentrações de nitrato de prata. Os dado...