Filmes de Diamante Nanocristalinos Dopados com Boro - F.A.Souza, Fernando,
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Este estudo teve como objetivo a obtenção e caracterização de filmes finos de diamante nano/ultrananocristalinos dopados com boro visando a aplicação deste material num futuro próximo na área eletroquímica, utilizando os eletrodos de nanodiamante dopados na degradação de compostos inorgânicos. Os filmes foram obtidos pela técnica HFCVD (Hot Filament Chemical Vapor Deposition), utilizando como fonte de dopante uma solução de óxido de boro em metanol. A princípio, na primeira série de experimentos variaram-se os níveis de dopagem com boro em 2.000, 5.000, 10.000, 20.000 e 30.000 ppm e tempos de…mehr

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Produktbeschreibung
Este estudo teve como objetivo a obtenção e caracterização de filmes finos de diamante nano/ultrananocristalinos dopados com boro visando a aplicação deste material num futuro próximo na área eletroquímica, utilizando os eletrodos de nanodiamante dopados na degradação de compostos inorgânicos. Os filmes foram obtidos pela técnica HFCVD (Hot Filament Chemical Vapor Deposition), utilizando como fonte de dopante uma solução de óxido de boro em metanol. A princípio, na primeira série de experimentos variaram-se os níveis de dopagem com boro em 2.000, 5.000, 10.000, 20.000 e 30.000 ppm e tempos de crescimento do filme em 6, 10 e 16 h. Posteriormente, na segunda série de experimentos variou-se o percentual de argônio em relação ao hidrogênio na mistura gasosa, em 50, 60, 70, 80 e 85 %. Foram feitas análises morfológicas, estruturais e eletroquímicas, visando estudos fundamentais dos filmes obtidos.
Autorenporträt
Fernando Almeida de Souza, atuou como pesquisador colaborador no Instituto de Estudos Avançados-IEAv da Força Aérea Brasileira. É Mestre em Engenharia de Tecnologias Espaciais/Engenharia de Materiais e Sensores, formado pelo Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais-INPE e graduado em Eng. Mecânica.