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Nesta monografia, a pesquisa fundamental na criação de MFPs de dimensões ultra-altas permitiu otimizar a tecnologia de protótipo de mosaico com redução de "pontos cegos", conseguindo áreas de dano mínimo nas bordas ao separar wafers em cristais com provisão de espaços mínimos entre cristais de submódulos adjacentes no MFP a um valor não superior a 2-3 µm para diferentes materiais semicondutores definidores. São apresentadas abordagens fundamentais originais para a criação de PFMs e métodos tecnológicos de fabricação de PFMs de ultra-alta dimensionalidade. Foi desenvolvida uma metodologia óptica para alcançar a máxima eficiência de conversão de imagem em MHPs. Os protótipos tecnológicos propostos de PPMs extra-altos cobrem opticamente os "pontos cegos" e proporcionam uma eficiência máxima, praticamente 100%, na conversão da imagem. Foi desenvolvida uma metodologia para analisar as características dos PFI's de RI baseada em MSCN's e a eficiência de conversão de imagem dos PFI's. É determinado que o princípio do mosaico é fundamentalmente uma das abordagens tecnológicas promissoras e revolucionárias para alcançar a ultra-alta dimensionalidade dos PFMs com a máxima eficiência de conversão de imagem.