Gebrauchsmustergesetz - Loth, Hans Friedrich
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Zum WerkDas seit 125 Jahren bestehende Gebrauchsmuster hat seine Daseinsberechtigung mittlerweile nicht nur bewiesen, sondern es hat sich vom "kleinen Bruder" des Patentrechts zum veritablen Immaterialgüterrecht entwickelt. Gegenüber dem oft starren Patentrecht bietet das flexible Gebrauchsmusterrecht anwendungsstrategische Vorteile und ist damit unverzichtbarer Bestandteil einer wirtschaftlich sinnvollen IP-Strategie.Die Autoren behandeln das deutsche Gebrauchsmustergesetz (GebrMG) und erläutern dessen Bestimmungen und strategische Vorteile konzentriert, kompakt und verständlich. Dabei wird…mehr

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Produktbeschreibung
Zum WerkDas seit 125 Jahren bestehende Gebrauchsmuster hat seine Daseinsberechtigung mittlerweile nicht nur bewiesen, sondern es hat sich vom "kleinen Bruder" des Patentrechts zum veritablen Immaterialgüterrecht entwickelt. Gegenüber dem oft starren Patentrecht bietet das flexible Gebrauchsmusterrecht anwendungsstrategische Vorteile und ist damit unverzichtbarer Bestandteil einer wirtschaftlich sinnvollen IP-Strategie.Die Autoren behandeln das deutsche Gebrauchsmustergesetz (GebrMG) und erläutern dessen Bestimmungen und strategische Vorteile konzentriert, kompakt und verständlich. Dabei wird die einschlägige Rechtsprechung des BGH, des BPatG und der Instanzgerichte ebenso ausgewertet wie die relevante Entscheidungspraxis des EPA und des EuGH.Wegen der Systemverwandtschaft des Patent- und Gebrauchsmusterrechts werden patentrechtliche Grundsätze behandelt, soweit sie für die Anwendung des GebrMG von Interesse sind. Seine Einbettung in internationale Verträge und Schutzsysteme (EPÜ,Einheitspatent, PCT, TRIPs) wird ebenfalls dargestellt.Der Kommentar enthält im Anhang die für die Praxis wichtigen Vorschriften, wie beispielsweise die Gebrauchsmusterverordnung, die Rechercherichtlinie, die Prüfungsrichtlinien, die Klassifizierungs- und die Hinterlegungsverordnung.Vorteile auf einen Blick- praxisorientierte Kommentierung der Vorschriften zum Gebrauchsmusterrecht mit europäischen Bezügen- ausgewiesene Experten aus Praxis und Wissenschaft- aktuell, verständlich und prägnantZur NeuauflageDie Neuauflage enthält:- größtenteils vollständige Neubearbeitungen- praxisrelevante Fallgestaltungen und Anwendungsbeispiele- die Adaptierung neuer patentrechtlicher Entwicklung im Gebrauchsmusterrecht- die neuesten Verordnungen und Richtlinien des DPMAZielgruppeRechtsanwälte, Patentanwälte und Patentanwaltskandidaten, patentamtliche Prüfer, Richter, Erfinder, Unternehmer, Entwicklungs- und Forschungsabteilungen sowie Rechts- und Patentabteilungen von Wirtschaftsunternehmen, Wirtschaftsjuristen und Verbände.Herausgeber:Dr. Hans-Friedrich Loth, Rechtanwalt, MünchenWeitere Autoren:Johanna Stock, Rechtsanwältin, MünchenDr. Ricarda Pantze, Rechtsanwältin, MünchenPD Dr. Ronny Hauck, München
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