Vladislaw Vasil'ew

Himicheskoe osazhdenie iz gazowoj fazy stekloobraznyh tonkih plenok

• Broschiertes Buch

Produktbeschreibung

Oblast' monografii - poluchennye metodami himicheskogo osazhdeniya iz gazovoj fazy (HOGF) tonkie neorganicheskie stekloobraznye plenki, ispol'zuemye v tehnologiyah mikrojelektroniki, mikro- i nanosistemnoj tehniki, optojelektroniki. Na osnovanii ob#emnogo jexperimental'nogo materiala, v tom chisle poluchennogo lichno avtorom i kollektivami pod rukovodstvom avtora, proanalizirovany processy HOGF i svojstva tonkih plenok nitrida kremniya, dioxida kremniya, fosfor- i borsilikatnyh tonkih plenok. Sozdany osnovnye predstavleniya o kinetike rosta plenok pri HOGF. Ustanovleny kolichestvennye kriterii i obosnovana kineticheskaya shema processov HOGF, predlozheny sposoby optimizacii processov i apparatury HOGF. Ispol'zovany sovremennye metody issledovanij struktury, sostava i svojstv tonkih plenok. Predlozheny shemy stroeniya plenok stekol, izlozheny podhody k optimizacii tonkoplenochnyh materialov. Vydeleny osnovnye istoricheskie jetapy razvitiya processov HOGF tonkih plenok primenitel'no k tehnologii mikrojelektroniki, sformulirovany zadachi i napravleniya dal'nejshego razvitiya. Rekomenduetsya magistrantam i aspirantam tehnicheskih universitetov, issledovatelyam i tehnologam sovremennyh naukoemkih proizvodstv.

Produktdetails

• Verlag: LAP Lambert Academic Publishing
• Seitenzahl: 388
• Erscheinungstermin: 25. Januar 2018
• Russisch
• Abmessung: 220mm x 150mm x 24mm
• Gewicht: 596g
• ISBN-13: 9786137329252
• ISBN-10: 6137329259
• Artikelnr.: 51194449

Autorenporträt

Vasil'ew Vladislaw Jur'ewich, doktor himicheskih nauk (2002), professor Nowosibirskogo gosudarstwennogo tehnicheskogo uniwersiteta. Awtor/soawtor bolee 200 nauchno-tehnicheskih publikacij i dokladow, 15 awtorskih swidetel'stw SSSR, patentow Rossijskoj Federacii i SShA, awtor dwuh monografij po tonkim plenkam dlq mikroälektronnyh tehnologij (2013, 2014).