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Le protesi supportate da impianti hanno aperto molte possibilità di sostituire i denti persi. Gli impianti basali sono stati sviluppati principalmente come piano di trattamento nelle creste mascellari e mandibolari atrofizzate e per le procedure di carico immediato. Gli impianti basali sono impianti fissati in osso corticale con l'intenzione di utilizzarli in un protocollo di carico immediato. La richiesta di ripristinare la funzione e l'estetica dei pazienti edentuli ha mantenuto la branca dell'implantologia sotto i riflettori nel recente passato. L'odontoiatria moderna si è adattata a…mehr

Produktbeschreibung
Le protesi supportate da impianti hanno aperto molte possibilità di sostituire i denti persi. Gli impianti basali sono stati sviluppati principalmente come piano di trattamento nelle creste mascellari e mandibolari atrofizzate e per le procedure di carico immediato. Gli impianti basali sono impianti fissati in osso corticale con l'intenzione di utilizzarli in un protocollo di carico immediato. La richiesta di ripristinare la funzione e l'estetica dei pazienti edentuli ha mantenuto la branca dell'implantologia sotto i riflettori nel recente passato. L'odontoiatria moderna si è adattata a ripristinare le varie caratteristiche necessarie per la funzione masticatoria e la corretta assunzione di nutrimento. I recenti progressi della ricerca hanno portato alla sostituzione degli impianti convenzionali in situazioni complesse in cui l'altezza, la larghezza e il volume dell'osso sono inadeguati e la presenza di strutture anatomiche cruciali. Gli impianti basali possono essere posizionati evitando le strutture critiche e ottenendo un ancoraggio per ottenere un'eccellente stabilità primaria.
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Autorenporträt
La dott.ssa Kirtika sta attualmente svolgendo il suo post-laurea nel Dipartimento di Protesi e Corona e Ponte presso il Genesis Institute of Dental Sciences and Research, Punjab. Ha conseguito la laurea in chirurgia dentale nel 2020. È una studentessa di odontoiatria appassionata, entusiasta e orientata ai dettagli.