Investigación de la resistencia a la radiación de las nanoestructuras de Ni - Shlimas, Dmitrij; Babahanowa, Kamila; Kozlowskij, Artem
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Esta monografía está dedicada al estudio del efecto de la exposición a la radiación sobre las propiedades de las nanoestructuras huecas de níquel, cuyo interés se debe al gran potencial de uso de las nanoestructuras de níquel como diversas aplicaciones electrónicas y catalizadores. La elección del medio está determinada por la posible aplicación de nanoestructuras en dispositivos microelectrónicos que son capaces de calentarse en el proceso de funcionamiento y no están protegidos del entorno exterior. La elección del níquel como material para obtener nanoestructuras se debe a sus propiedades…mehr

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Produktbeschreibung
Esta monografía está dedicada al estudio del efecto de la exposición a la radiación sobre las propiedades de las nanoestructuras huecas de níquel, cuyo interés se debe al gran potencial de uso de las nanoestructuras de níquel como diversas aplicaciones electrónicas y catalizadores. La elección del medio está determinada por la posible aplicación de nanoestructuras en dispositivos microelectrónicos que son capaces de calentarse en el proceso de funcionamiento y no están protegidos del entorno exterior. La elección del níquel como material para obtener nanoestructuras se debe a sus propiedades físicas y químicas, así como a una amplia gama de aplicaciones prácticas, desde la energía fotovoltaica, la catálisis, los portadores magnéticos, la biomedicina y la administración de medicamentos específicos.
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Autorenporträt
Esta monografía se publicó como parte del programa de financiación por objetivos y fue financiada por el Comité de Ciencia del Ministerio de Educación y Ciencia de la República de Kazajstán (¿ BR05235921).