Investigação da resistência à radiação das nanoestruturas de Ni - Shlimas, Dmitrij; Babahanowa, Kamila; Kozlowskij, Artem
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Esta monografia é dedicada ao estudo do efeito da exposição à radiação sobre as propriedades das nanoestruturas ocas à base de níquel, cujo interesse se deve ao grande potencial de utilização das nanoestruturas de níquel como diversas aplicações eletrônicas e catalisadores. A escolha do meio é determinada pela potencial aplicação de nanoestruturas em dispositivos microeletrônicos capazes de aquecer no processo de operação e não protegidos do ambiente externo. A escolha do níquel como material para obtenção de nanoestruturas deve-se às suas propriedades físicas e químicas, bem como a uma vasta…mehr

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Produktbeschreibung
Esta monografia é dedicada ao estudo do efeito da exposição à radiação sobre as propriedades das nanoestruturas ocas à base de níquel, cujo interesse se deve ao grande potencial de utilização das nanoestruturas de níquel como diversas aplicações eletrônicas e catalisadores. A escolha do meio é determinada pela potencial aplicação de nanoestruturas em dispositivos microeletrônicos capazes de aquecer no processo de operação e não protegidos do ambiente externo. A escolha do níquel como material para obtenção de nanoestruturas deve-se às suas propriedades físicas e químicas, bem como a uma vasta gama de aplicações práticas desde fotovoltaica, catálise, portadores magnéticos, biomedicina, entrega de medicamentos específicos.
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Autorenporträt
Esta monografía se publicó como parte del programa de financiación por objetivos y fue financiada por el Comité de Ciencia del Ministerio de Educación y Ciencia de la República de Kazajstán (¿ BR05235921).