Mnogoslojnye sistemy tipa CaF2 ¿ CoSi2 ¿ Si, GaAlAs ¿ GaAs w nastoqschee wremq shiroko primenqütsq w strukturah kremnij (ili inoj poluprowodnik) na diälektrike, priborah na osnowe MDP ¿ struktur. Oni takzhe primenqütsq dlq sozdaniq wspomogatel'nyh älementow pribornyh struktur mikroälektroniki, wklüchaq zaschitnye i diälektricheskie sloi dlq materialow A3V5, opticheskie pokrytiq i okna dlq optoälektroniki, monokristallicheskie wysokorazreshaüschie rezisty, bufernye sloi dlq sozdaniq na osnowe kremniq nowyh geterokompozicij, naprimer, almaz ¿ na kremnii i t.p. V dannoj rabote priwedeny rezul'taty komplexnogo izucheniq mehanizmow modifikacii i osobennostej obrazowaniq nanorazmernyh struktur w powerhnostnyh sloqh PdBa, CoSi2, CaF2 i GaAs pri nizkoänergeticheskoj ionnoj bombardirowke s posleduüschej termicheskoj i lazernoj obrabotkoj.
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