Alexej Pestow

JeUF litografiq na dline wolny 13,5 nm

Razwitie diagnosticheskih metodow dlq zadach proekcionnoj litografii 13,5 nm

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Produktbeschreibung

Proekcionnaq litografiq s dlinoj wolny 193 nm w nastoqschee wremq qwlqetsq klüchewoj tehnologiej pri proizwodstwe älementow mikroälektroniki s pomosch'ü kotoroj osuschestwlqetsq "zapis'" topologicheskogo risunka na fotoreziste s posleduüschim proqwleniem. Blagodarq primeneniü razlichnyh metodow uluchsheniq izobrazhenij razreshenie litograficheskih ustanowok uzhe prewzoshlo difrakcionnyj predel i dostigaet 32 nm. Cenoj ätogo qwlqetsq ogranichennyj nabor topologij, snizhenie proizwoditel'nosti i dorogowizna litograficheskogo processa. Jekonomicheski wygodnoe oswoenie tehnologicheskih norm 10-30 nm swqzywaetsq s litografiej äxtremal'nogo ul'trafioletowogo (JeUF) diapazona, w kotorom osnowoj opticheskih älementow qwlqütsq mnogoslojnye interferencionnye struktury (MIS). Nesmotrq na uspehi, podtwerdiwshie perspektiwy JeUF litografii dlq formirowaniq nanostruktur, na puti k kommercheskomu litografu na 13,5 nm predstoit reshit' eschö rqd nauchnyh i tehnologicheskih problem. V dannoj rabote predlagaütsq metody diagnostiki i optimizacii MIS, izuchaütsq chuwstwitel'nost' i razreshenie JeUF rezistow, istochniki JeUF izlucheniq, polucheny perwye izobrazheniq metodom kontaktnoj litografii.

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Produktdetails

• Verlag: LAP LAMBERT Academic Publishing
• Seitenzahl: 160
• Erscheinungstermin: 29. Juni 2011
• Russisch
• Abmessung: 220mm x 150mm x 10mm
• Gewicht: 256g
• ISBN-13: 9783844352924
• ISBN-10: 3844352929
• Artikelnr.: 62705935

Autorenporträt

Pestow Alexej Ewgen'ewich, magistr radiofiziki (NNGU im. Lobachewskogo); kandidat fiziko-matematicheskih nauk; nauchnyj sotrudnik Instituta fiziki mikrostruktur RAN (otd. mnogoslojnoj rentgenowskoj optiki).