Le matériau de nanostructure SiO2 a été synthétisé par la méthode Sol-Gel. Des films minces ont été préparés en utilisant une technique de revêtement par immersion. L'effet de la densification au laser sur les échantillons a été étudié. Une structure nanocristalline sphérique de films minces de silice a été densifiée avec succès par un laser à diode (410 nm). Les images FESEM ont montré que la forme de la nano silice est sphérique et la taille des particules est dans la gamme nano ( 100 nm).
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