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El progreso de la ciencia de los materiales ha promovido el rápido desarrollo de la economía mundial, ya se trate de materiales poliméricos inteligentes con sistemas de detección, o de materiales fotorresistentes que promueven el desarrollo de circuitos integrados semiconductores desde el nivel micrométrico hasta el nanométrico, son la dirección de desarrollo más prometedora en este campo. Las moléculas fotocrómicas se introducen en la red polimérica para preparar elastómeros poliméricos inteligentes con función de deformación fotocontrolada o materiales fotorresistentes con rendimiento de…mehr

Produktbeschreibung
El progreso de la ciencia de los materiales ha promovido el rápido desarrollo de la economía mundial, ya se trate de materiales poliméricos inteligentes con sistemas de detección, o de materiales fotorresistentes que promueven el desarrollo de circuitos integrados semiconductores desde el nivel micrométrico hasta el nanométrico, son la dirección de desarrollo más prometedora en este campo. Las moléculas fotocrómicas se introducen en la red polimérica para preparar elastómeros poliméricos inteligentes con función de deformación fotocontrolada o materiales fotorresistentes con rendimiento de despolimerización fotocontrolada, lo que abre una nueva dirección para la preparación de materiales funcionales. Sin embargo, todavía quedan por resolver una serie de problemas, como mejorar la fotosensibilidad de este tipo de materiales, acelerar su velocidad de respuesta a la luz y obtener un excelente rendimiento fisicoquímico, de modo que puedan aplicarse a la vida cotidiana humana. El hexarildiimidazol (HABI), como interruptor molecular fotocrómico de rápida respuesta fotoquímica, podría integrarse en polímeros y utilizarse para fabricar materiales poliméricos funcionales y materiales fotorresistentes DUV, proporcionando una idea clave para resolver importantes problemas científicos en este campo.
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Autorenporträt
El profesor Shi-Li Xiang obtuvo el doctorado en 2021. Posteriormente, se incorporó al laboratorio JFS como director de I+D de tecnología litográfica. Actualmente, su investigación se centra principalmente en el desarrollo de tecnología litográfica avanzada, así como en el desarrollo de materiales semiconductores clave.