32,99 €
inkl. MwSt.
Versandkostenfrei*
Versandfertig in 6-10 Tagen
  • Broschiertes Buch

Stralingsdefect generatie door hoog-energetische MeV-elektronenbestraling van n- en p-type Si-SiO2 structuur met verschillende soorten oxiden is bestudeerd. De morfologische veranderingen van SiO2-oxide tijdens de MeV-elektronenbestraling is door AFM waargenomen. Si+ ionen geïmplanteerde Si-SiO2 structuren voor en na MeV elektronenbestraling worden gepresenteerd. De herverdeling van zuurstof- en siliciumatomen en het genereren van Si-nanokristal tijdens MeV-elektronenbestraling werd waargenomen door respectievelijk RBS/C en AFM-technieken. Optische eigenschappen, fotoluminescentie en…mehr

Produktbeschreibung
Stralingsdefect generatie door hoog-energetische MeV-elektronenbestraling van n- en p-type Si-SiO2 structuur met verschillende soorten oxiden is bestudeerd. De morfologische veranderingen van SiO2-oxide tijdens de MeV-elektronenbestraling is door AFM waargenomen. Si+ ionen geïmplanteerde Si-SiO2 structuren voor en na MeV elektronenbestraling worden gepresenteerd. De herverdeling van zuurstof- en siliciumatomen en het genereren van Si-nanokristal tijdens MeV-elektronenbestraling werd waargenomen door respectievelijk RBS/C en AFM-technieken. Optische eigenschappen, fotoluminescentie en spectroscopische studies van SiOx-films die met MeV-elektronen zijn bestraald, worden ook uitgevoerd.
Autorenporträt
Prof. Sonia Kaschieva PhD, DSc, ISSP, BAS. Sofia, Bügaria. Urodzona w 1943 r. w Bügarii. 1999 - Doktor nauk w JINR, Dubna, Rosja. 2004 - Profesor, cz¿onek stowarzyszony ISSP - BAS. Prof. Sergey N. Dmitriev PhD, DSc, JINR, Dubna - Rosja Urodzony w 1954, Rosja 1996 - Doktor nauk w JINR, Dubna, Rosja 2000 - Profesor, dyrektor FLNR JINR.