Andere Kunden interessierten sich auch für
![Mikrostruktura sapfira s ionnoj implantaciej]( "Mikrostruktura sapfira s ionnoj implantaciej")
Mikrostruktura sapfira s ionnoj implantaciej44,99 €![Microstructure du saphir implanté par des ions]( "Microstructure du saphir implanté par des ions")
Microstructure du saphir implanté par des ions44,99 €![Microestrutura de safira implantada em iões]( "Microestrutura de safira implantada em iões")
Microestrutura de safira implantada em iões44,99 €![Microstructuur van geïmplanteerd saffier]( "Microstructuur van geïmplanteerd saffier")
Microstructuur van geïmplanteerd saffier44,99 €![Mikrostruktur von ionenimplantiertem Saphir]( "Mikrostruktur von ionenimplantiertem Saphir")
Mikrostruktur von ionenimplantiertem Saphir68,00 €![Microstruttura dello zaffiro con impianto ionico]( "Microstruttura dello zaffiro con impianto ionico")
Microstruttura dello zaffiro con impianto ionico44,99 €![Issledowanie mikrostrukturnyh swojstw betona]( "Issledowanie mikrostrukturnyh swojstw betona")
Issledowanie mikrostrukturnyh swojstw betona13,99 €
Nauka o technologii implantacji jonowej zajmuje si¿ modyfikacj¿ w¿äciwo¿ci przypowierzchniowych szerokiej gamy materiäów. Technika ta zapewnia doskonä¿ kontrol¿ parametrów implantacji, takich jak zakres dawki, energia jonów oraz temperatura implantacji. Próbki alfa-Al2O3 (szafir) napromieniowano w temperaturze pokojowej (RT) i 1000 stopni C fluencjami 1x10^17 B+/cm^2, 3x10^16 N+/cm^2 i 1x10^17 Fe+/cm^2 o energii 150 keV. Po napromieniowaniu, struktury by¿y badane za pomoc¿ transmisyjnej mikroskopii elektronowej (TEM), spektroskopii Rutherforda (RBS-C), pomiarów absorpcji optycznej, dyfrakcji rentgenowskiej (XRD) i spektroskopii fotoelektronów (XPS). Mikrostruktury napromieniowanych próbek, zdeponowana energia (spr¿¿ysta i nieelastyczna) w funkcji g¿¿boko¿ci od powierzchni, zakres implantowanych gatunków oraz produkcja defektów by¿y modelowane przy u¿yciu programu transport and range of ions in materials (TRIM).