Mit DC-Magnetron gesputterte aluminiumdotierte ZnO-Dünnschichten
Für optoelektronische Geräte
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Hochleitfähige und transparente Schichten haben viele wichtige Anwendungen wie transparente Elektroden für optoelektronische Geräte und transparente Wärmespiegel für die Nutzung der Sonnenenergie. Obwohl Indium-Zinn-Oxid (ITO)-Dünnschichten im Allgemeinen für praktische Anwendungen verwendet werden, ist ITO ein relativ teures Material, da Indium nicht im Überfluss vorhanden ist. In letzter Zeit haben Al-dotierte ZnO-Dünnschichten als transparentes und leitfähiges Beschichtungsmaterial Interesse geweckt, da die niedrigen Kosten dieses Materials es für groß angelegte Anwendungen attr...
Hochleitfähige und transparente Schichten haben viele wichtige Anwendungen wie transparente Elektroden für optoelektronische Geräte und transparente Wärmespiegel für die Nutzung der Sonnenenergie. Obwohl Indium-Zinn-Oxid (ITO)-Dünnschichten im Allgemeinen für praktische Anwendungen verwendet werden, ist ITO ein relativ teures Material, da Indium nicht im Überfluss vorhanden ist. In letzter Zeit haben Al-dotierte ZnO-Dünnschichten als transparentes und leitfähiges Beschichtungsmaterial Interesse geweckt, da die niedrigen Kosten dieses Materials es für groß angelegte Anwendungen attraktiv machen. In diesem Buch werden die optimierten Abscheidungsbedingungen für die Herstellung von Al-dotierten ZnO-Dünnschichten durch reaktive DC-Magnetron-Sputter-Methode diskutiert. Die strukturellen, oberflächenmorphologischen, elektrischen und optischen Eigenschaften von Al-dotierten ZnO-Dünnschichten wurden systematisch beschrieben.
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