Badano generowanie defektu radiacyjnego przez napromieniowanie elektronami MeV o wysokiej energii struktury n- i p- typu Si-SiO2 ró¿nymi rodzajami tlenków. Zmiany morfologiczne tlenku Si-SiO2 podczas napromieniania elektronami MeV obserwowano za pomoc¿ AFM. Przedstawiono zaimplantowane struktury Si-SiO2 z jonu Si+ przed i po näwietlaniu elektronami MeV. Redystrybucj¿ atomów tlenu i krzemu oraz generacj¿ nanokrysztäów Si podczas napromieniania elektronów MeV obserwowano odpowiednio za pomoc¿ technik RBS/C i AFM. Przeprowadzono równie¿ badania w¿äciwo¿ci optycznych, fotoluminescencji i spektroskopowe näwietlanych elektronami MeV folii SiOx.