O material de SiO2 nanoestrutura foi sintetizado pelo método Sol-Gel. As películas finas foram preparadas utilizando uma técnica de revestimento por imersão. O efeito da densificação por laser sobre as amostras foi estudado. Uma estrutura esférica nanocristalina de películas finas de sílica foi densificada com sucesso por laser de Diodo (410 nm). As imagens FESEM mostraram que a forma da nano sílica é esférica e que o tamanho das partículas está na faixa de nano (¿ 100 nm).
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