Georg Benkard

Patentgesetz

Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz
Herausgegeben:Bacher, Klaus;Mitarbeit:Bacher, Klaus; Asendorf, Claus Dietrich; Engel, Friedrich-Wilhelm; Fricke, Stephan; Grabinski, Klaus; Kober-Dehm, Helga; Melullis, Klaus-Jürgen; Nobbe, Julia; Rupp-S

• Buch mit Leinen-Einband

Produktbeschreibung

Zum WerkDieser Klassiker ist der führende und für die Meinungsbildung unverzichtbare patenrechtliche Kommentar - nicht nur dank seiner traditionellen Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum internationalen und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt.Vorteile auf einen BlickErläuterung durch erfahrene Praktikerinnen und PraktikerGründliche Darstellung nach deutschem KommentarstandardMitbehandlung des GebrauchsmustergesetzesZur NeuauflageDie Neuauflage berücksichtigt die aktuellen Entwicklungen in Rechtsprechung und Gesetzgebung und wird sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht.Behandelt werden etwa Fragen zur Lizenzierung standardessenzieller Patente (SEP) sowie zum Europäischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG).Ebenfalls enthalten sind die Änderungen aufgrund des Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts, wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs.ZielgruppeFür Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Studium, Referendariat und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.

Produktdetails

• Beck'sche Kurz-Kommentare
• Verlag: Beck Juristischer Verlag
• 12. Aufl.
• Seitenzahl: 2501
• Erscheinungstermin: 29. Juni 2023
• Deutsch
• Abmessung: 246mm x 172mm x 69mm
• Gewicht: 2124g
• ISBN-13: 9783406727894
• ISBN-10: 3406727891
• Artikelnr.: 62900838