Physikalische Eigenschaften von reinen und kupferdotierten Silberoxid-Dünnschichten
für mikroelektronische Geräte
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Transparente dünne Schichten aus leitenden Metalloxiden (TCO) haben die Aufmerksamkeit vieler Forscher auf sich gezogen, da sie in der transparenten Elektronik Anwendung finden, z. B. in Heterojunction-Solarzellen, Gassensoren, elektrochromen Geräten, antibakteriellen Beschichtungen usw. Reines Silberoxid (Ag2O) und kupferdotiertes Silberoxid (Ag2Cu2O3 und Ag2Cu2O4) sind transparente Oxide, die eine Leitfähigkeit vom p-Typ aufweisen. Die Eigenschaften dieser Materialien hängen von der Herstellungsmethode und den Ablagerungsbedingungen ab, die während des Wachstums der Schicht eingehalten ...
Transparente dünne Schichten aus leitenden Metalloxiden (TCO) haben die Aufmerksamkeit vieler Forscher auf sich gezogen, da sie in der transparenten Elektronik Anwendung finden, z. B. in Heterojunction-Solarzellen, Gassensoren, elektrochromen Geräten, antibakteriellen Beschichtungen usw. Reines Silberoxid (Ag2O) und kupferdotiertes Silberoxid (Ag2Cu2O3 und Ag2Cu2O4) sind transparente Oxide, die eine Leitfähigkeit vom p-Typ aufweisen. Die Eigenschaften dieser Materialien hängen von der Herstellungsmethode und den Ablagerungsbedingungen ab, die während des Wachstums der Schicht eingehalten werden. In diesem Buch werden die optimierten Bedingungen für die Herstellung von dünnen Schichten aus reinem Silberoxid (Ag2O) und kupferdotiertem Silberoxid (Ag2Cu2O3 und Ag2Cu2O4) auf p-Typ-Silizium- und Glassubstraten mit Hilfe der reaktiven RF-Magnetron-Sputtertechnik untersucht und deren Struktur und Oberflächenmorphologie, Zusammensetzung sowie elektrische und optische Eigenschaften untersucht. Der vielversprechende Ansatz zur Herstellung von einphasigen Ag2O-Filmen von guter Qualität für Elektroden in Mikrobatterieanwendungen und Ag-Cu-O-Filmen für Gassensoren, Solarzellen und antibakterielle Mittel wurde in diesem Buch deutlich diskutiert.
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