Nicht lieferbar
Andere Kunden interessierten sich auch für
MECHANIZM KSZTA¿CENIA SZKO¿CENIA FOTOGRAFICZNEGO WYDAJNO¿¿: Monografia/ A.Yu. Akhmerov - Düsseldorf: LAP LAMBERT Academic Publishing GmbH & Co.KG, 2020. - ¿ 79 c. .Za pomoc¿ metody luminescencyjnej autor zbadä i uzasadni¿ nowy - "izolacyjny" - mechanizm superczulenia halogenowo-srebrowych fotomateriäów (HF) przez zwi¿zki hydrofobowe. Monografia sk¿ada si¿ ze wst¿pu, czterech rozdziäów i konkluzji. Rozdziä pierwszy zawiera krótki literacki przegl¿d wyników badä nad wp¿ywem pól elektrycznych na wräliwo¿¿ fotomateriäów oraz przedstawia teori¿ jonizacji pó¿przewodników. Rozwäane s¿ kwestie zwi¿kszenia skuteczno¿ci dziäania uczulenia widmowego na HF. W drugim rozdziale opisano eksperymentalne ustawienie i technik¿ pomiaru widm luminescencji halogenków srebra. W rozdziale trzecim przedstawiono wyniki badä nad luminescencj¿ elektroluminescencyjn¿ halogenków srebra oraz ich omówienie. W rozdziale czwartym opisano wyniki badä nad mechanizmem "izolacji" superczulenia na HF. Wnioski z badania zostäy przedstawione we wnioskach.