Recubrimiento y control de la eliminación completa de las piezas de uranio - Suschev, Andrey Alexeevich
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El libro contiene materiales sobre el desarrollo de herramientas que mejoran la uniformidad de las películas finas depositadas en una cámara de vacío durante la evaporación térmica del material de los botes sobre un sustrato con un diámetro superior a 100 mm. El autor ha propuesto tipos de piezas de radio y un circuito eléctrico para girar el sustrato en el utillaje, así como dibujos de las principales piezas metálicas para fabricar y montar el utillaje. Durante el recubrimiento de sustratos de uranio, un factor importante es la preparación de las superficies para el sputtering de otro…mehr

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Produktbeschreibung
El libro contiene materiales sobre el desarrollo de herramientas que mejoran la uniformidad de las películas finas depositadas en una cámara de vacío durante la evaporación térmica del material de los botes sobre un sustrato con un diámetro superior a 100 mm. El autor ha propuesto tipos de piezas de radio y un circuito eléctrico para girar el sustrato en el utillaje, así como dibujos de las principales piezas metálicas para fabricar y montar el utillaje. Durante el recubrimiento de sustratos de uranio, un factor importante es la preparación de las superficies para el sputtering de otro material. Al describir el proceso estándar, el autor señala que el uso de alcohol en la limpieza final del sustrato de uranio a veces impedía una buena adhesión entre el sustrato y la fina capa metálica aplicada. Se adjuntan fotografías con estudios de ciencia de los materiales, que muestran bien los resultados del utillaje. Se muestra un método para eliminar el revestimiento de las muestras de uranio utilizando un cepillo metálico. La escasa eficacia de este método se justifica con estudios de ciencia de los materiales adjuntos realizados en un microscopio electrónico. Sobre las mismas muestras se propone un método para revelar la calidad de la limpieza mediante un método luminiscente de control. Se sacan conclusiones y se identifican las mejores variantes del método luminiscente.
Autorenporträt
 ¿. A. Suschev, 11.09.1975 nacido en la ciudad de Snezhinsk, región de Chelyabinsk. En 1996 se licenció en Ingeniería Informática por el MEPhI. En 2016 se graduó con matrícula de honor en el SFTI MEPhI en la especialidad de "Ingeniería de Instrumentación". Ingeniero-investigador. Un estudiante graduado. La investigación está relacionada con el desarrollo de la tecnología de deposición y eliminación de revestimientos en los detalles, la integridad de la deposición.