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Il libro contiene materiali sullo sviluppo di utensili che migliorano l'uniformità dei film sottili depositati in una camera a vuoto durante l'evaporazione termica del materiale dalle barche su un substrato con un diametro superiore a 100 mm. L'autore ha proposto dei tipi di parti radio e un circuito elettrico per la tornitura del substrato nell'attrezzatura, e i disegni delle principali parti metalliche per la fabbricazione e il montaggio dell'attrezzatura. Durante il rivestimento di substrati di uranio un fattore importante è la preparazione delle superfici per lo sputtering di altro…mehr

Produktbeschreibung
Il libro contiene materiali sullo sviluppo di utensili che migliorano l'uniformità dei film sottili depositati in una camera a vuoto durante l'evaporazione termica del materiale dalle barche su un substrato con un diametro superiore a 100 mm. L'autore ha proposto dei tipi di parti radio e un circuito elettrico per la tornitura del substrato nell'attrezzatura, e i disegni delle principali parti metalliche per la fabbricazione e il montaggio dell'attrezzatura. Durante il rivestimento di substrati di uranio un fattore importante è la preparazione delle superfici per lo sputtering di altro materiale. Descrivendo il processo standard, l'autore nota che l'uso dell'alcool nella pulizia finale del substrato di uranio a volte impediva una buona adesione tra il substrato e il sottile strato di metallo applicato. Sono allegate fotografie con studi di scienza dei materiali, che mostrano bene i risultati dell'attrezzaggio. Viene mostrato un metodo per rimuovere il rivestimento dai campioni di uranio utilizzando una spazzola metallica. La bassa efficienza di questo metodo è giustificata da studi di scienza dei materiali allegati fatti con un microscopio elettronico. Sugli stessi campioni viene proposto un metodo per rivelare la qualità della pulizia per mezzo di un metodo di controllo luminescente. Le conclusioni sono fatte e le migliori varianti del metodo luminescente sono identificate.
Autorenporträt
 ¿. A. Suschev, 11.09.1975 nacido en la ciudad de Snezhinsk, región de Chelyabinsk. En 1996 se licenció en Ingeniería Informática por el MEPhI. En 2016 se graduó con matrícula de honor en el SFTI MEPhI en la especialidad de "Ingeniería de Instrumentación". Ingeniero-investigador. Un estudiante graduado. La investigación está relacionada con el desarrollo de la tecnología de deposición y eliminación de revestimientos en los detalles, la integridad de la deposición.