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Negli ultimi decenni è stata una sfida disperdere in modo omogeneo i nanotubi di carbonio nelle matrici polimeriche. Ciò ha portato all'adozione di diversi metodi per aumentare il tasso di dispersione nei polimeri. Questo lavoro si propone quindi di presentare un metodo per disperdere uniformemente i nanotubi nella matrice PAN e di caratterizzare il composito con metodi UV, IR e DSC. In questo caso, il composito sarebbe particolarmente adatto per transistor a effetto di campo, schermatura elettromagnetica, stampa elettrostatica, scambio termico e persino stampa 3D.

Produktbeschreibung
Negli ultimi decenni è stata una sfida disperdere in modo omogeneo i nanotubi di carbonio nelle matrici polimeriche. Ciò ha portato all'adozione di diversi metodi per aumentare il tasso di dispersione nei polimeri. Questo lavoro si propone quindi di presentare un metodo per disperdere uniformemente i nanotubi nella matrice PAN e di caratterizzare il composito con metodi UV, IR e DSC. In questo caso, il composito sarebbe particolarmente adatto per transistor a effetto di campo, schermatura elettromagnetica, stampa elettrostatica, scambio termico e persino stampa 3D.
Autorenporträt
Lilian M. Muia, MSc: Studium der Nanotechnologie und der Materialien für Mikro- und Nanosysteme an der National University of Science and Technology- MISiS, BSc: Elektro- und Elektronikingenieurwesen an der Multimedia University of Kenya.