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A indústria de semicondutores impulsiona e também beneficia muito com o desenvolvimento da nanotecnologia. Como previsto pela lei de Moore, o número de nanocomponentes individuais, tais como transístores num chip, continua a aumentar, aumentando a densidade de entidades funcionais e melhorando assim a potência computacional. Um método poderoso para o fabrico controlado à escala nanométrica é o processamento induzido por feixe de electrões focalizado (FEBIP). Nele, um feixe de electrões focalizado é utilizado para modificar localmente as propriedades de um substrato, permitindo o fabrico de nanoestruturas com forma arbitrária e composição química controlada. A técnica FEBIP mais frequentemente aplicada e proeminente é a deposição induzida por feixe de electrões (EBID), na qual certas moléculas precursoras são localmente dissociadas pelo impacto do feixe de electrões, levando à deposição dos fragmentos não voláteis dos precursores. Neste livro, foram realizadas investigações na fabricação e aplicação da nanoestrutura pelo EBID.