Rain Chen

Strategiczne zastosowania patentu na wzór

Zwi¿kszanie konkurencyjno¿ci przedsi¿biorstw poprzez wiedz¿ na temat projektowania

• Broschiertes Buch

Produktbeschreibung

W ksi¿¿ce tej autor rozwija g¿ówny temat strategii patentowej w czterech kwestiach, które w wi¿kszo¿ci opisuj¿ proces ustanawiania odpowiednich trybów dziäania dla ich konkretnych celów. Szczegó¿y dotycz¿ce tych trybów s¿ nast¿puj¿ce: (1) w przypadku ochrony wzorów, siedmio¿cie¿kowy mechanizm ochrony jest skonstruowany tak, aby wiedza na temat wzoru mog¿a uzyskä wi¿ksz¿ ochron¿ w celu zwi¿kszenia ochrony wiedzy na temat wzoru; (2) w przypadku procesu projektowania, integracja systematycznego procesu projektowania z mechanizmem ochrony patentowej wzoru tworzy now¿ procedur¿ projektowania, która zapewnia patentowalno¿¿ prac projektowych; (3) w strategii dotycz¿cej projektowania strategia jest okre¿lona za pomoc¿ mapy patentów na wzór, pozwalaj¿c korporacji na przeksztäcenie informacji patentowych w wykonaln¿ strategi¿ dotycz¿c¿ projektowania; (4) w sprzedäy wzorów, wzór dla merchandisingu produktów i us¿ug zwi¿zanych z wzorami poprzez handel elektroniczny jest skonstruowany tak, aby wykorzystä mo¿liwy potencjä sprzedäy online. Strategiczne wykorzystanie patentów na wzory jest krytyczn¿ taktyk¿, w której korporacja zintegruje wzornictwo i wiedz¿ patentow¿ w efektywn¿ przewag¿ konkurencyjn¿.

Produktdetails

• Verlag: Wydawnictwo Nasza Wiedza
• Seitenzahl: 144
• Erscheinungstermin: 5. Mai 2022
• Polnisch
• Abmessung: 220mm x 150mm x 10mm
• Gewicht: 233g
• ISBN-13: 9786202870450
• ISBN-10: 6202870451
• Artikelnr.: 63974140

Autorenporträt

El Dr. Rain Chen es profesor asociado en la Universidad del Sur de Taiwán (STU), Taiwán. Fue examinador de patentes en la Oficina de Propiedad Intelectual de Taiwán (TIPO) entre 1998 y 2000. Es abogado de patentes. Sus intereses de investigación incluyen la patente de diseño, la estrategia de diseño y la gestión de diseño.