Teoretyczna ocena wspó¿czynnika odbicia w cienkich warstwach AL/SiO2 - Ortega Cabrera, Jesús Javier
39,99 €
inkl. MwSt.
Versandkostenfrei*
Versandfertig in 1-2 Wochen
payback
20 °P sammeln
  • Broschiertes Buch

Poprawa w¿äciwo¿ci optycznych materiäu, takich jak reflektancja, wi¿¿e si¿ ze z¿o¿onym poszukiwaniem optymalnych parametrów eksperymentalnych w procesie ich otrzymywania. Wykorzystanie oprogramowania obliczeniowego do symulacji procesów wzrostu cienkich warstw stanowi istotn¿ korzy¿¿ ze wzgl¿du na brak zale¿no¿ci od rzeczywistego systemu, jak równie¿ mo¿liwo¿¿ zbadania szerszego zakresu wyst¿puj¿cych wielko¿ci fizycznych. Ponadto, istnieje potrzeba w przemy¿le motoryzacyjnym, Varroc Lighting Systems© otrzymä zadanie poprawy wspó¿czynnika odbicia reflektorów aluminiowych, wi¿c przeprowadzili¿my…mehr

Andere Kunden interessierten sich auch für
Produktbeschreibung
Poprawa w¿äciwo¿ci optycznych materiäu, takich jak reflektancja, wi¿¿e si¿ ze z¿o¿onym poszukiwaniem optymalnych parametrów eksperymentalnych w procesie ich otrzymywania. Wykorzystanie oprogramowania obliczeniowego do symulacji procesów wzrostu cienkich warstw stanowi istotn¿ korzy¿¿ ze wzgl¿du na brak zale¿no¿ci od rzeczywistego systemu, jak równie¿ mo¿liwo¿¿ zbadania szerszego zakresu wyst¿puj¿cych wielko¿ci fizycznych. Ponadto, istnieje potrzeba w przemy¿le motoryzacyjnym, Varroc Lighting Systems© otrzymä zadanie poprawy wspó¿czynnika odbicia reflektorów aluminiowych, wi¿c przeprowadzili¿my rozwój, przy u¿yciu oprogramowania NASCAM®, które wykorzystuje metod¿ kinetyczn¿ Monte Carlo do opracowania modelu uk¿adu fizycznego, który ma by¿ badany w skali nanometrycznej, pozwoli nam to na analiz¿ wp¿ywu ró¿nych wielko¿ci, które mog¿ wp¿ywä na wspó¿czynnik odbicia materiäu.
Hinweis: Dieser Artikel kann nur an eine deutsche Lieferadresse ausgeliefert werden.
Autorenporträt
Jesús Javier Ortega Cabrera: Master in de ingenieurswetenschappen met oriëntatie op materialen, School voor mechanische en elektrische engineering, Universidad Autónoma de Nuevo León.