Untersuchung der Strahlungsbeständigkeit von Ni-Nanostrukturen - Shlimas, Dmitrij;Babahanowa, Kamila;Kozlowskij, Artem
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Diese Monographie widmet sich der Untersuchung des Einflusses der Strahlenexposition auf die Eigenschaften von hohlen Nanostrukturen auf Nickelbasis, deren Interesse auf das große Potenzial für die Verwendung von Nickel-Nanostrukturen als verschiedene elektronische Anwendungen und Katalysatoren zurückzuführen ist. Die Wahl des Mediums wird durch die mögliche Anwendung von Nanostrukturen in mikroelektronischen Geräten bestimmt, die sich im Betrieb erwärmen können und nicht vor der äußeren Umgebung geschützt sind. Die Wahl von Nickel als Material für die Herstellung von Nanostrukturen ist auf…mehr

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Produktbeschreibung
Diese Monographie widmet sich der Untersuchung des Einflusses der Strahlenexposition auf die Eigenschaften von hohlen Nanostrukturen auf Nickelbasis, deren Interesse auf das große Potenzial für die Verwendung von Nickel-Nanostrukturen als verschiedene elektronische Anwendungen und Katalysatoren zurückzuführen ist. Die Wahl des Mediums wird durch die mögliche Anwendung von Nanostrukturen in mikroelektronischen Geräten bestimmt, die sich im Betrieb erwärmen können und nicht vor der äußeren Umgebung geschützt sind. Die Wahl von Nickel als Material für die Herstellung von Nanostrukturen ist auf seine physikalischen und chemischen Eigenschaften sowie auf ein breites Spektrum praktischer Anwendungen zurückzuführen, die von der Photovoltaik, Katalyse, magnetischen Trägern, Biomedizin bis hin zur gezielten Medikamentenabgabe reichen.
Autorenporträt
Esta monografía se publicó como parte del programa de financiación por objetivos y fue financiada por el Comité de Ciencia del Ministerio de Educación y Ciencia de la República de Kazajstán (¿ BR05235921).