Vakuumbeschichtung

Verfahren und Anlagen
Herausgegeben:Kienel, Gerard; Röll, Klaus

• Broschiertes Buch

Produktbeschreibung

Schwerpunkte in Band 2 bilden das Aufdampfen im Hochvakuum, das Ionenplattieren, die Kathodenzerstäubung, teilchengestützte Verfahren, die Erzeugung von Mikrostrukturen, Plasmabehandlungsverfahren und die Abscheidung aus der Gasphase (CVD).

---

Hinweis: Dieser Artikel kann nur an eine deutsche Lieferadresse ausgeliefert werden.

Produktdetails

• VDI-Buch
• Verlag: Springer / Springer Berlin Heidelberg / Springer, Berlin
• Artikelnr. des Verlages: 978-3-642-63398-0
• Softcover reprint of the original 1st ed. 1995
• Seitenzahl: 500
• Erscheinungstermin: 14. Oktober 2012
• Deutsch
• Abmessung: 244mm x 170mm x 27mm
• Gewicht: 853g
• ISBN-13: 9783642633980
• ISBN-10: 3642633986
• Artikelnr.: 37477175

Inhaltsangabe

1 Vakuumbeschichtungsverfahren - Übersicht.- 2 Bedeutung der Vakuumtechnik für die Beschichtungstechnik.- 2.1 Vorbemerkungen.- 2.2 Einfluß der Restgase auf die Schichtreinheit.- 2.3 Vakuumerzeugung.- 2.4 Vakuummessung.- 3 Aufdampfen im Hochvakuum.- 3.1 Vorbemerkungen.- 3.2 Physikalische Grundlagen.- 3.3 Anlagentechnik.- 4 Ionenplattieren.- 4.1 Einleitung.- 4.2 Ionenplattierungsprozeß.- 4.3 Anlagentechnik.- 4.4 Entwicklungsstand und Ausblick.- 5 Ionenzerstäubung von Festkörpern (Sputtering).- 5.1 Einführung.- 5.2 Beschreibung des Zerstäubungsprozesses.- 5.3 Plasmagestützte Zerstäubungsverfahren.- 5.4 Anlagentechnik.- 6 Teilchenstrahlgestützte Verfahren.- 6.1 Einleitung.- 6.2 Teilchenstrahlquellen.- 6.3 Anwendung niederenergetischer Ionen- und Plasmastrahlen.- 6.4 Teilchenstrahlunterstützte Beschichtung (IBAD).- 6.5 Ionenstrahlimplantation.- 6.6 Ionenstrahlmischen.- 7 Erzeugung von Mikrostrukturen an Oberflächen und dünnen Schichten.- 7.1 Plasmamethoden.- 7.2 Teilchenstrahlmethoden in ihrer Anwendung in der Lithographie.- 8 Plasmabehandlungsmethoden.- 8.1 Plasmadiffusionsverfahren.- 8.2 Pulsimplantation.- 9 Plasmaspritzen.- 9.1 Vorbemerkungen.- 9.2 Funktionsprinzip des Plasmaspritzens.- 9.3 Verfahrensvarianten.- 9.4 Anlagentechnik.- 10 Abscheidung aus der Gasphase.- 10.1 Physikalisch-chemische Grundlagen.- 10.2 Produktionssysteme für CVD-Prozesse.- 10.3 Modifizierung des Beschichtungsprozesses durch ein Plasma.- 10.4 Modifizierung der Gasphase durch Photo-CVD.- 10.5 Plasmapolymerisation.- Literatur.- Sachwortverzeichnis.- Autorenverzeichnis.