Wzrost i charakterystyka cienkich warstw ITO metod¿ rozpylania magnetronowego - Tuna, Öcal
32,99 €
inkl. MwSt.
Versandkostenfrei*
Versandfertig in 6-10 Tagen
  • Broschiertes Buch

W tej pracy cienkie warstwy tlenku cyny indu (ITO) by¿y hodowane zarówno technik¿ rozpylania magnetronowego DC jak i RF. Aby poznä szybko¿¿ osadzania ITO, system zostä skalibrowany zarówno dla DCMS jak i RFMS, a nast¿pnie ITO by¿y uprawiane na szklanym pod¿o¿u o grubo¿ci 70 nm i 40 nm poprzez zmian¿ temperatury pod¿o¿a. Zbadano wp¿yw temperatury pod¿o¿a, grubo¿ci warstwy i metody napylania na w¿äciwo¿ci strukturalne, elektryczne i optyczne. Wyniki pokazuj¿, ¿e temperatura pod¿o¿a i grubo¿¿ folii znacz¿co wp¿ywa na w¿äciwo¿ci folii, zw¿aszcza na krystalizacj¿ i rezystywno¿¿. Cienkie warstwy…mehr

Andere Kunden interessierten sich auch für
Produktbeschreibung
W tej pracy cienkie warstwy tlenku cyny indu (ITO) by¿y hodowane zarówno technik¿ rozpylania magnetronowego DC jak i RF. Aby poznä szybko¿¿ osadzania ITO, system zostä skalibrowany zarówno dla DCMS jak i RFMS, a nast¿pnie ITO by¿y uprawiane na szklanym pod¿o¿u o grubo¿ci 70 nm i 40 nm poprzez zmian¿ temperatury pod¿o¿a. Zbadano wp¿yw temperatury pod¿o¿a, grubo¿ci warstwy i metody napylania na w¿äciwo¿ci strukturalne, elektryczne i optyczne. Wyniki pokazuj¿, ¿e temperatura pod¿o¿a i grubo¿¿ folii znacz¿co wp¿ywa na w¿äciwo¿ci folii, zw¿aszcza na krystalizacj¿ i rezystywno¿¿. Cienkie warstwy hodowane w temperaturze ni¿szej ni¿ 150 oC wykazywäy struktur¿ amorficzn¿. Jednak¿e, krystalizacja by¿a wykrywana wraz z dalszym wzrostem temperatury pod¿o¿a. Szczelina pasmowa ITO zostäa obliczona na oko¿o 3.64eV w temperaturze pod¿o¿a 150 oC i zwi¿kszäa si¿ wraz ze wzrostem temperatury pod¿o¿a. Z pomiarów elektrycznych wynika, ¿e rezystywno¿¿ w temperaturze pokojowej wynosi¿a 1.28×10-4 i 1.29×10-4 D-cm, odpowiednio dla folii napylanych pr¿dem stäym i pr¿dem przemiennym. Zmierzyli¿my równie¿ zale¿no¿¿ rezystywno¿ci od temperatury oraz wspó¿czynnik Halla folii, a tak¿e obliczyli¿my koncentracj¿ no¿ników i ruchliwo¿¿ Halla.
Autorenporträt
El autor completó su bachillerato en la Universidad de Dokuz Eylül entre 2000 y 2005 y su maestría en ciencias en el Instituto de Tecnología de Izmir en 2009. Actualmente está haciendo su doctorado en la Universidad RWTH Aachen en Alemania y trabaja en el crecimiento de InN y heteroestructura rica en In por MOCVD y la caracterización de ellos.