Dieses Buch vermittelt die grundlegenden Kenntnisse für den Layoutentwurf digitaler und analoger Schaltungen. Neben den ingenieurwissenschaftlichen Grundlagen werden auch Werkzeugaspekte behandelt. Das Werk befähigt Ingenieure, einen Schaltplan oder eine Netzliste in eine Layoutdarstellung zur Fertigung eines integrierten Schaltkreises (IC) oder einer Leiterplatte umzusetzen. Nach einer einleitenden Übersicht zu Fertigungstechnologien, Besonderheiten der Mikroelektronik und den Aufgaben des Layoutentwurfs behandelt Kap. 2 zunächst die technologischen Grundlagen der IC-Fertigung. werden nachfolgend alle Aspekte des Layoutentwurfs vertieft: Schnittstellen, Entwurfsregeln und Bibliotheken (Kap. 3), Entwurfsstile, -modelle und -flüsse (Kap. 4), Entwurfsschritte (Kap. 5), Besonderheiten des analogen IC-Entwurfs (Kap. 6) und schließlich Zuverlässigkeitsmaßnahmen (Kap. 7). Das Buch eignet sich als Lehrbuch in den Ingenieurwissenschaften und als Nachschlagewerk für Schaltungs- und Layoutentwickler in der Industrie.
Die Bilder u. a. Informationen sind herunterladbar: https://www.ifte.de/books/pd_dt/index.html
This is a welcome and very important new reference book for both students and practicing microelectronics design engineers. It fills a gap in pedagogy that has been growing over time, by building from foundations while spanning layers of system architecture and integration, as well as both analog and digital layout.
Professor Andrew B. Kahng, University of California San Diego, USA
This book covers fundamentals of IC mask or layout design with a strong emphasis on the technological background, the practical design and verification steps, and the analog and reliability issues. I find the book worth reading. It equips students and junior engineers with comprehensive layout design knowledge.
Professor Mark Po-Hung Lin, National Chiao Tung University, Taiwan
Dieses Buch ist wertvoll undeinzigartig, weil es sehr viel praxisnahes Wissen vermittelt. ... Die Autoren schaffen es, diese Themen, ohne zu sehr ins Detail zu gehen, so zu beschreiben, dass sie für alle modernen Herstellungstechnologien relevant sein dürften.
Anton Klotz, Program Director, Cadence Design Systems GmbH, Deutschland
This book is an excellent introduction, covering where we are now, the key problems we currently face, and also providing a glimpse of what is to come. The authors are respected leaders in the field, with deep knowledge; they cover the material in a crisp and clear manner, making this text a great resource for anyone, from the new student to the seasoned expert.
Associate Professor Patrick H. Madden, Binghamton University, USA
The combined expertise of the authors and the attention they have paid to theory and practice, big picture and detail, illustrative examples and written text, make this book the perfect go-to resource forstudents and engineers alike.
Professor Laleh Behjat, University of Calgary, Kanada
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This is a welcome and very important new reference book for both students and practicing microelectronics design engineers. It fills a gap in pedagogy that has been growing over time, by building from foundations while spanning layers of system architecture and integration, as well as both analog and digital layout.
Professor Andrew B. Kahng, University of California San Diego, USA
This book covers fundamentals of IC mask or layout design with a strong emphasis on the technological background, the practical design and verification steps, and the analog and reliability issues. I find the book worth reading. It equips students and junior engineers with comprehensive layout design knowledge.
Professor Mark Po-Hung Lin, National Chiao Tung University, Taiwan
Dieses Buch ist wertvoll undeinzigartig, weil es sehr viel praxisnahes Wissen vermittelt. ... Die Autoren schaffen es, diese Themen, ohne zu sehr ins Detail zu gehen, so zu beschreiben, dass sie für alle modernen Herstellungstechnologien relevant sein dürften.
Anton Klotz, Program Director, Cadence Design Systems GmbH, Deutschland
This book is an excellent introduction, covering where we are now, the key problems we currently face, and also providing a glimpse of what is to come. The authors are respected leaders in the field, with deep knowledge; they cover the material in a crisp and clear manner, making this text a great resource for anyone, from the new student to the seasoned expert.
Associate Professor Patrick H. Madden, Binghamton University, USA
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Professor Laleh Behjat, University of Calgary, Kanada
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