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  • Format: PDF

"Explores the science and technology of lithographic processes and resist materials and summarizes the most recent innovations in semiconductor manufacturing. Considers future trends in lithography and resist material technology. Reviews the interaction of light, electron beams, and X-rays with resist materials."

  • Geräte: PC
  • ohne Kopierschutz
  • eBook Hilfe
  • Größe: 28.04MB
Produktbeschreibung
"Explores the science and technology of lithographic processes and resist materials and summarizes the most recent innovations in semiconductor manufacturing. Considers future trends in lithography and resist material technology. Reviews the interaction of light, electron beams, and X-rays with resist materials."

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Autorenporträt
Saburo Nonogaki, Ueno Takumi, Toshio Ito