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  • Format: PDF

This book brings together new developments in the area of strain-engineered MOSFETs using high-mobility substrates such as SIGe, strained-Si, germanium-on-insulator, and III-V semiconductors.

Produktbeschreibung
This book brings together new developments in the area of strain-engineered MOSFETs using high-mobility substrates such as SIGe, strained-Si, germanium-on-insulator, and III-V semiconductors.


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Autorenporträt
C K Maiti (Author) , T K Maiti (Indian Institute of Technology, Kharagpur, India Indian Institute of Technology, Kharagpur Indian Institute of Technology, Kharagpur Indian Institute of Technology, Kharagpur Indian Institute of Technology, Kharagpur) (Author)