36,99 €
inkl. MwSt.
Versandkostenfrei*
Versandfertig in 6-10 Tagen
payback
18 °P sammeln
  • Broschiertes Buch

O emprego de circuitos em altas temperaturas representa um dos maiores problemas para a utilização da tecnologia MOS convencional, devido à excessiva elevação da corrente de fuga nas junções, que aumenta a potência dissipada durante o desligamento dos transistores e provoca a degradação da tensão de limiar nestes dispositivos. Sob este aspecto, há relatos mostrando que a tecnologia SOI apresenta-se como uma excelente alternativa à tecnologia MOS convencional, devido à significativa redução da corrente de fuga das junções e da menor variação da tensão de limiar com a temperatura. Este trabalho…mehr

Produktbeschreibung
O emprego de circuitos em altas temperaturas representa um dos maiores problemas para a utilização da tecnologia MOS convencional, devido à excessiva elevação da corrente de fuga nas junções, que aumenta a potência dissipada durante o desligamento dos transistores e provoca a degradação da tensão de limiar nestes dispositivos. Sob este aspecto, há relatos mostrando que a tecnologia SOI apresenta-se como uma excelente alternativa à tecnologia MOS convencional, devido à significativa redução da corrente de fuga das junções e da menor variação da tensão de limiar com a temperatura. Este trabalho investiga o comportamento do SOI nMOSFET de canal ¿ totalmente depletados, submetidos a temperaturas que variam desde a ambiente até 300ºC, dando um enfoque especial para o estudo do comportamento das correntes de fuga em função da temperatura, sendo assim, realizou-se uma série de simulações numéricas tridimensionais variando-se as dimensões geométricas dos dispositivos, Isto é, a largura do canal (W) e o comprimento (L), para verificar qual o comportamento elétrico demonstrado por estes transistores quando operando em tais condições.
Autorenporträt
Mestre em Engenharia Elétrica - Microeletrônica (2012) pelo Centro Universitário da FEI. Pós-graduado em Formação de Docentes para o Ensino Superior pela Universidade UNINOVE (2010). Graduado em Engenharia Elétrica com Ênfase Eletrônica/Computadores pelo Centro Universitário da FEI (1994).