NiSi2 KREMNIY NITRIDI NANOFILMNING XUSUSIYATLARI - Mustafoyeva, Nodira
39,99 €
inkl. MwSt.
Versandkostenfrei*
Versandfertig in 6-10 Tagen
payback
20 °P sammeln
  • Broschiertes Buch

Ushbu monografiyada Si yuza va yuzaosti qatlamlarida nanoölchamli MeSi2 strukturalarining hosil bölish mexanizmlarini aniqlash va ularni olish, shuningdek, ularning tarkibi, tuzilishi va fizik xususiyatlarini aniqlashga katta e'tibor qaratilmoqda. Plyonkali materiallarning elektronika sohasida ishlatilishida eng asosiy örinni epitaksial plyonkalar egallaydi. Bunday plyonkalarning xususiyatlarini örganishning qiziqarliligi va ahamiyati shundaki plyonkalar katta va öta katta integral sxemalar ishlab chiqarishda, lazer asboblarini yaratishda, yuqori va öta yuqori chastotali rezonatorlar, quyosh…mehr

Andere Kunden interessierten sich auch für
Produktbeschreibung
Ushbu monografiyada Si yuza va yuzaosti qatlamlarida nanoölchamli MeSi2 strukturalarining hosil bölish mexanizmlarini aniqlash va ularni olish, shuningdek, ularning tarkibi, tuzilishi va fizik xususiyatlarini aniqlashga katta e'tibor qaratilmoqda. Plyonkali materiallarning elektronika sohasida ishlatilishida eng asosiy örinni epitaksial plyonkalar egallaydi. Bunday plyonkalarning xususiyatlarini örganishning qiziqarliligi va ahamiyati shundaki plyonkalar katta va öta katta integral sxemalar ishlab chiqarishda, lazer asboblarini yaratishda, yuqori va öta yuqori chastotali rezonatorlar, quyosh elementlari olishda, umuman eng zamonaviy va eng noyob mikroelektron asboblar ishlab chiqarishda alohida rol öynaydi. U kelajak elektronikasi, ya'ni nanoelektronikaning ham asosini tashkil etadi.
Autorenporträt
O¿zbekiston Respublikasi Oliy Tälim, fan va innovatsiyalar vazirligi Axborot texnologiyalari va menejment universiteti, ¿Matematikä kafedrasi.