19,99 €
inkl. MwSt.

Versandfertig in 6-10 Tagen
  • Broschiertes Buch

Progress w ochen' masshtabnoj integracii, milliardy tranzistorow i komponentow mogut byt' razmescheny na odnom poluprowodnikowom chipe dlq realizacii slozhnyh shem. V poslednee wremq tehnologii razwiwaütsq w naprawlenii miniatürizacii poluprowodnikowyh ustrojstw, kotorye imeüt neskol'ko zametnyh prepqtstwij w rasseiwanii tepla, änergopotreblenii, ploschadi chipa i äffektiwnosti ustrojstw. Po mere prodwizheniq tehnologii na glubokij submikronnyj urowen', razmery älementow, rasseiwaemaq moschnost' iz-za toka utechki rastut s ugrozhaüschej skorost'ü. Mnogochislennye prognozy pokazywaüt, chto w…mehr

Produktbeschreibung
Progress w ochen' masshtabnoj integracii, milliardy tranzistorow i komponentow mogut byt' razmescheny na odnom poluprowodnikowom chipe dlq realizacii slozhnyh shem. V poslednee wremq tehnologii razwiwaütsq w naprawlenii miniatürizacii poluprowodnikowyh ustrojstw, kotorye imeüt neskol'ko zametnyh prepqtstwij w rasseiwanii tepla, änergopotreblenii, ploschadi chipa i äffektiwnosti ustrojstw. Po mere prodwizheniq tehnologii na glubokij submikronnyj urowen', razmery älementow, rasseiwaemaq moschnost' iz-za toka utechki rastut s ugrozhaüschej skorost'ü. Mnogochislennye prognozy pokazywaüt, chto w blizhajshie gody moschnost' utechki stanet analogom dinamicheskoj rasseiwaemoj moschnosti, odnako dinamicheskaq moschnost' takzhe rastet i po-prezhnemu dominiruet. Optimal'nym resheniem dlq ustraneniq ätih prepqtstwij qwlqetsq analiz proizwoditel'nosti shem SBIS, razrabotannyh s ispol'zowaniem razlichnyh KMOP-tehnologij.
Autorenporträt
Doktor T. Sheela poluchila doktorskuü stepen' w oblasti proektirowaniq SBIS w 2015 godu w Vinayaka Missions Research Foundation, Salem i stepen' magistra w Uniwersitete Anny w 2008 godu. Ona qwlqetsq ad#ünkt-professorom/ECE w VMKVEC, Salem. Ona opublikowala neskol'ko zhurnalow i knig. Ee issledowatel'skie interesy wklüchaüt shemy VLSI, cifrowye shemy i älektronnye shemy.