Ronald Hellriegel

Ätzen von Titannitrid mit Halogenverbindungen

Kammerreinigung mit externer Plasmaquelle

• Broschiertes Buch

Produktbeschreibung

Mit zunehmender Miniaturisierung mikroelektronischer Bauelemente steigen die Anforderungen an reproduzierbare qualititätskonforme Schichten. Um die zur herstellung notwendigen ALD/PVD/CVD-Schichtabscheideanlagen in einen zuverlässigen Zustand zu versetzen, ist eine regelmäßige Kammerreinigung notwendig.Im vorliegenden Buch wird am Beispiel der Remote Plasma Source (RPS)-Kammerreinigung von TiN-Abscheideanlagen ein systematischer Ansatz zur Untersuchung der relevanten Parameter vorgestellt. Mit den Meßmethoden QMS, FTIR, OES, XPS, Interferometrie werden die Besonderheiten von Fluor/Chlor-Interhalogenmischungen gezeigt und die zugrunde liegenden Mechanismen beschrieben. Eine effektive Methode zur TiN-Kammerreinigung bei niedrigen Temperaturen und niedrigen Drücken wird vorgeschlagen.Erstmalig wurde die Verwendung von molekularem Fluor mit RPS-Plasma als Kammerreinigungsgas untersucht und die Ätz-Effektivität mit der des NF3 verglichen. Die Anwendung von Fluor in Trägergas für Reinigungsprozesse in der Mikroelektronik oder Photovoltaik stellt sich vorteilhaft dar.

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Produktdetails

• Verlag: Books on Demand
• Seitenzahl: 136
• Erscheinungstermin: 25. Juni 2009
• Deutsch
• Abmessung: 210mm x 148mm x 10mm
• Gewicht: 208g
• ISBN-13: 9783839106938
• ISBN-10: 3839106931
• Artikelnr.: 26565367

Autorenporträt

Der Autor forschte im Rahmen seiner Dissertation an der Optimierung von ALD/PVD/CVD-Prozessen bei der Qimonda Dresden OHG&Co KG unter Unterstützung durch die Labors des Instituts für Halbleiter- und Mikroelektronik (IHM) an der TU-Dresden bei Prof. Dr. rer. nat. Bartha.