Nitrid galliewye struktury, kotorye shiroko ispol'zuütsq w älektronnyh i optoälektronnyh priborah, w nastoqschee wremq preimuschestwenno wyraschiwaüt na sapfirowyh i karbid-kremniewyh podlozhkah. V poslednee wremq woznik interes k polucheniü takih struktur na kremniewoj podlozhke. Jeto obuslowleno perspektiwami integracii nitrid-galliewoj i kremniewoj älektroniki, wozmozhnost'ü ispol'zowaniq podlozhek bol'shih (do 300 mm) razmerow, ih nizkoj stoimost'ü, horoshej älektricheskoj prowodimost'ü. V obzore predstawleny äxperimental'nye rezul'taty äpitaxial'nogo rosta, naibolee deshewym metodom - metodom gazofaznoj hloridno-gidridnoj äpitaxii, sloew nitridow galliq i alüminiq na kremniewoj podlozhke. Obsuzhdaetsq nowyj podhod podawleniq processa obrazowaniq dislokacij i odnowremennogo snizheniq uprugoj deformacii w nitridnyh sloqh na podlozhke kremniq za schöt primeneniq tonkogo dopolnitel'nogo sloq karbida kremniq. Awtorami rassmotreny wozmozhnosti äpitaxial'nogo rosta sloew nitrida galliq w polupolqrnom naprawlenii na planarnoj podlozhke kremniq. Kniga budet polezna kak studentam i aspirantam, tak i professionalam w oblasti geteroäpitaxii sloew na kremnii.
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