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Produktbild: Nanoimprint Lithography: An Enabling Process for Nanofabrication
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Nanoimprint Lithography: An Enabling Process for Nanofabrication

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Beschreibung

Produktdetails

Einband

Gebundene Ausgabe

Erscheinungsdatum

04.01.2013

Abbildungen

XIII, 249 p.

Verlag

Springer Berlin

Seitenzahl

249

Maße (L/B/H)

24,1/16/2 cm

Gewicht

576 g

Auflage

2013

Sprache

Englisch

ISBN

978-3-642-34427-5

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04.01.2013

Abbildungen

XIII, 249 p.

Verlag

Springer Berlin

Seitenzahl

249

Maße (L/B/H)

24,1/16/2 cm

Gewicht

576 g

Auflage

2013

Sprache

Englisch

ISBN

978-3-642-34427-5

Herstelleradresse

Springer-Verlag GmbH
Tiergartenstr. 17
69121 Heidelberg
DE

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  • Principles and statues of nanoimprint lithography.- Stamp Fabrication.- stamp surface treatment.- Nanoimprint lithography resists.- Nanoimprint lithography process.- Modeling and Simulation of NIL.- Application of NIL in Light emitting Diodes.- Application of NIL in memory devices.- Application of NIL in solar cell.